?目前多肽的合成技術(shù)已經(jīng)很成熟，但是在多肽合成過程中有時會發(fā)生DG重排或者天冬氨酸酰胺化，導致雜質(zhì)峰離目標峰很貼近，而很難純化甚至無法分離。從而導致產(chǎn)率降低，為解決此類問題，今天介紹一種Asp的側(cè)鏈保護基，氰基亞硫?；喎QCYS。此類方法可有效的減少DG重排和Asp酰胺化導致的雜質(zhì)，大大提高合成，純化效率。

后面關于DG重排和Asp酰胺化等類似副反應，統(tǒng)稱為D酰胺化。

先來看看目前比較常用的保護策略

一、側(cè)鏈叔丁氧基，簡稱OtBu,氨基酸縮寫Asp(OtBu),結(jié)構(gòu)如下。

在一些特殊序列中，此類方法容易發(fā)生消旋和產(chǎn)生雜質(zhì)，如下圖所示

二、二肽結(jié)構(gòu)單元，F(xiàn)moc-Asp(OtBu)-(Dmb)Gly-OH和Fmoc-Asp(OtBu)-(Hmb)Gly-OH

Dmb：二甲氧基芐基

Hmb：2-羥基-4-甲氧基-芐基

此類方案確實可以減少D酰胺化的幾率，（通常添加HOBT或其它添加劑來進一步降低副反應幾率），不過偶聯(lián)效率很低，必須以二肽為單元結(jié)構(gòu)進行偶聯(lián)。且不能非常有效的阻止D酰胺化這一副反應。、

三、氰基亞硫?；?CYS)

這也是小編今天想要介紹的有效方案。

1，氰基亞硫酰基的形成

2，氰基亞硫酰基的去除

3，效果對比展示

4，實例展示(CSY保護基團運用于替度魯肽的合成)

氰基亞硫?；Ｗo基團的方案在一些實驗數(shù)據(jù)中，已體現(xiàn)出其消除D酰胺化副反應的強大作用（降低副反應至可忽略的范圍），研究此領域的老師，可以嘗試一下。

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